Novum et originale TPA3116D2DADR Integratum ambitum IC Chips electronicarum partium

Primis diebus spumae semiconductoris, Pii character non erat principalis, germanium erat.Primus transistor erat transistor germanium-substructio et primus circuli circuli chip germanium integratus erat.
Primus transistor a Bardeen et Bratton repertus est, qui transistorem bipolarem finxerunt (BJT).Prima P/N coniunctas diode a Shockley inventa est et statim coniunctio huius generis a Shockley designata factus est vexillum structurae BJT et hodie in usu est.Tres etiam eorum Praemium Nobelianum in Physicis illo anno 1956 adiudicavit.
transistor simpliciter intelligi potest ut parvae commutationis.Secundum proprietates semiconductoris, semiconductor N-typus formari potest per doping semiconductor cum phosphoro et P-type semiconductor cum boron.Coniunctio semiconductorum N-type et P-typi format coniunctionem PN, structuram magni momenti in astulationibus electronicis;hoc permittit operationes specificae logicae perficiendas (sicut apud portas, portas, non portas, etc.).
Germanium autem nonnullas difficultates difficillimas habet, quales sunt multi defectus instrumentorum in semiconductore, pauperum stabilitate thermarum et oxydi densi defectus.Praeterea, germanium rarum elementum est, cum tantum 7 partes per milliones in crusta terrae, et germanium fodinae etiam valde dispersae sunt.Est quia germanium rarissimum est et non contractum, sumptus materiae rudium in germanium alte manere;res rarae sunt, et summa rerum rudium sumptus germanium transistores non vilius facit, unde difficile est in magno pretio transistores germanium producere.

Investigatores igitur in planitiem prosilierunt et elementum Pii spectaverunt.Diceres omnes defectus rerum insitas Germanorum esse utilitates Pii insitas.

Silicon secundum elementum copiosissimum post oxygeni est, sed basically non potes in natura monomeros Pii invenire;frequentissima eius composita sunt silica et silicates.E quibus silica est in parte praecipua harenae.Praeterea composita ut feldspar, granite et vicus omnes in compositis silica-oxygeni fundantur.

Silicon est thermally firmum, densum, altum, oxydatum dielectricum constans, et facile praeparari potest cum oxydo silicon-silicon cum defectibus interfacialibus paucissimis.

Oxydum silicon in aqua insolubile est (germanium oxydatum in aqua solutum est) et in plerisque acida insolubile, quod simpliciter perfectum est ad corrosionem technicis imprimendi adhibitis pro tabularum ambitu impressarum.Productum coniunctionis huius est processus planus per circulos integros qui usque in hodiernum diem permanet.
Silicon crystallum columnae

Pii iter ad summitatem
Incassum ausum: Dicitur Shockley vidisse ingentem nundinas opportunitatem quo tempore nemo adhuc transistorem Pii faciendi successerat;quam ob rem Labs Campana in anno 1956 reliquit ut suam societatem in California inciperet.Infeliciter, Shockley non erat bonus entrepreneur et negotiatio eius administratio erat error stulti cum suis artibus academicis.Ipse igitur Shockley ambitionem in germanium cum Pii reponat non explevit, et scaena in reliqua vitae suae podium apud Stanford University fuit.Anno ab urbe condita octo iuvenes ingeniosos ab eo frequentes defecerant, qui "octo proditores" erant, qui cupiditati pii germanium substituendi erant.

Pii transistoris ortum

Ante octo Renegades Fairchild Semiconductor fundavit, transistores germanium transistores mercatum dominabant, cum transistores XXX fere miliones transistores in Civitatibus Foederatis anno 1957 fabricati sunt, solum unum miliones transistores silicones et paene 29 miliones transistores germanium.Cum 20% foro participes, instrumenta Texas instrumentorum in foro transistoris gigas factus est.
Octo Renegades et Fairchild Semiconductor

Negotiatores mercatus maximus, US imperium et militaris, vis in magnis numeris in saxis et missilibus astulas uti, magni ponderis launch onus augendo et terminales moderandi constantiam augendo.Sed transistores etiam duras condiciones operantes subeunt ex caliditatibus et vibrationibus violentis causatis.

Germanium primum est amittere, cum ad temperiem ventum est: germanium transistores temperaturae tantum 80°C sustinere possunt, cum militaria requisita sint ad stabilem operationem usque ad CC°C.Solus transistores Pii hanc temperiem sustinere possunt.
Pii transistoris traditum

Fairchild excogitavit processum transistores pii faciendi, eosque tam simplices et efficaces libros impressos faciens, ac multo vilius quam transistores germanium in pretio.Processus Fairchild pro transistoribus Pii faciendis sic est horridus.

Uno modo manu trahitur, interdum tantae magnitudinis ut parietem excipiat, deinde extractio photographatae et ad minutissimam schedam translucentem redigitur, saepe cum duabus viculis trium schedae, quae singulae ambitus iacuerunt.

Secundo, materia levis sensitiva iacuit ad divisam et politam laganum siliconis lenis applicatum, et UV/laser exemplar e transilluminatione linteoli in laganum pii rotundum tueri adhibetur.

Tertio, areae et lineae in transilluminationis parte obscura scheda exposita exemplaria in laganum pii relinquunt;haec exemplaria non aperta cum solutione acidorum purgantur, et vel semiconductoris immundities (disfusionis artis) vel conductores metalli patellantur.

Quarto, tres gradus superius pro quolibet lagano translucente iterando, multi transistores obtineri possunt in lagana pii, quae ab operariis sub microscopio abscinduntur et deinde filis connexis, deinde involucris, probatis et venditis.

Cum transistoribus siliconibus in magna quantitate praesto, octo fundatores Fairchild recesserunt inter turmas quae stare potuerunt iuxta tales gigantes sicut Instrumenta Texas.

Gravis dis - Intel
Sequens inventio totius circuli dominatum germanium complexus est.In tempore duae lineae technologiae erant, una pro circuitionibus in germanium chippis ex Instrumentis Texas et una pro ambitus integros in astulas Pii de Fairchild.In primis duae turmae vehementer disceptabant de dominio diplomatis in circuitibus integris, sed postea officium diplomatis dominium diplomatis in ambitu ab utraque societate integratum agnovit.
Nihilominus, cum processio Fairchild provectior esset, signum facta est in circuitibus integralibus et hodie uti pergit.Postea Noyce, inventor circuli integrati, et Moore, inventor Legis Moore, Centron Semiconductor reliquit, qui obiter ambo membra "Octo Traitor" fuerunt.Una cum Grove, quae nunc maxima est mundi semiconductoris societatis chippis creaverunt, Intel.
Tres fundatores Intel, a sinistro: Grove, Noyce et Moore

In progressionibus subsequentibus Intel impulit astulas Pii.Tam gigantes quam Texas Instrumenta, Motorola, et IBM verberavit ut rex fieret repositionis semiconductoris et sectoris CPU.

Cum Intel factus est dominus in industria, silicon etiam germanium finivit, et quod olim Santa Clara Vallis "Silicon Valley" appellatum est.Cum ergo, silicon xxxiii instar semiconductoris chippis in perceptione publica facti sunt.

Germanium autem nonnullas difficultates difficillimas solvendi habet, quales sunt multi defectiones semiconductores, stabilitatis scelerisque pauper et oxydi densi defectus.Praeterea, germanium rarum elementum est, cum tantum 7 partes per milliones in crusta terrae, et germanium fodinae etiam valde dispersae sunt.Est quia germanium rarissimum est et non contractum, sumptus materiae rudium in germanium alte manere;res rarae sunt, et summa rerum rudium sumptus germanium transistores non vilius facit, unde difficile est in magno pretio transistores germanium producere.

Investigatores igitur in planitiem prosilierunt et elementum Pii spectaverunt.Diceres omnes infirmitates insitas Germanorum esse Pii vires insitas.

Silicon secundum elementum copiosissimum post oxygeni est, sed basically non potes in natura monomeros Pii invenire;frequentissima eius composita sunt silica et silicates.E quibus silica est in parte praecipua harenae.Praeterea composita ut feldspar, granite et vicus omnes in compositis silica-oxygeni fundantur.

Silicon est thermally firmum, densum, altum, oxydatum dielectricum constans, et facile praeparari potest cum oxydo silicon-silicon cum defectibus interfacialibus paucissimis.

Oxydum silicon in aqua insolubile est (germanium oxydatum in aqua solutum est) et in plerisque acida insolubile, quod simpliciter perfectum est ad corrosionem technicis imprimendi adhibitis pro tabularum ambitu impressarum.Productum coniunctionis huius est processus plani ambitus integrati qui usque hodie perseverat.