Tibco News, die 30 Iunii, imperium Batavica recentissimas ordinationes in instrumentorum semiconductoris exportandi potestate edidit, nonnulla media hoc modo interpretatus est imperium photolithographiae contra Sinas denuo omnibus DUV escalatum esse.Re quidem vera novae hae normae exportandi moderandi scopum progressum 45nm et infra machinationem technologiarum fabricandi, incluso instrumenti atomicii depositionis status-of-the-artis, apparatu incrementi epitaxialis, plasma depositionis instrumenti et systematis immersionis lithographiae, necnon technicae artis, programmatis adhibiti. ad utendum atque explicandum tam provecta apparatu.
In propositione ad Tibco, ASML inculcavit imperium novum imperium exportandi normas Batavicas solum aliquas exempla recentissima DUV, in quibus TWINSCAN NXT: 2000i et sequens immersio systemata lithographiae tegunt.EUV lithographia antea restricta est et amet ceterarum systematum ab imperio Batavica non refrenatur.Secundum ASML rutrum informationem, DUV immersionem systematis lithographiae, inter: TWINSCAN NXT:2050i, NXT:2050i, NXT: 1980Di tres machinae lithographiae, hae exsequi possunt 38nm ~ 45nm processus lagani processus.
Praeterea machinae lithographiae aridae DUV lagani supra 45um processui aptae, ut 65nm~ 220nm processus, ut TWINSCAN XT:400L, XT:1460K, NXT:870, etc., in indice sanctionum Batavica non comprehenduntur.
Elenchus ditionis Batavicae, a Tibco translata, talis est;
Ordinatio MinBuza.2023.15246-27 edita a Ministro Foreign Trade et Development Cooperatione Netherlandorum providet licentiae requisita ad exportationem instrumenti productionis provectae pro semiconductoribus non memoratis in Annex I regulationis No. 2021/821 (quae ad semiconductorem provectum armorum fabrica)
Articulus 2: Haec ordinatio exportationem semiconductoris instrumenti e Nederlandiae sine licentia Ministri exportationem vetat.
Articulus 3
1. Applicatio ad licentiam de qua in Art. 2. fienda erit ab exportatore et accusatori exhibenda.
2. Ceterum, applicatio continebit;
a） nomen et inscriptio exportatoris;
b）Nomen et inscriptio recipientis et end-usoris semiconductoris instrumenti fabricandi progressi;
c）Nomen et inscriptio recipientis et end-usoris provectioris instrumenti fabricandi semiconductoris.
III, in quolibet casu, accusator ius habet petendi exportatorii locare in exportando praebere, et constitutione de fine uti.
Articulus 4
Licentia, de qua in Art. 2, conditionibus et praescriptis subesse potest.
Concessionis licentiae, de qua in articulo 2°, cum qualificationibus existere potest.
Articulus V.
Licentiae, de quibus in Art. II, in sequentibus revocari possunt;
a) Licentia data est secundum informationes falsas vel incompletas;
b) Licentiae condiciones et restrictiones non secutae sunt;
c) Propter rationes securitatis et consilium nationalis.
Post tempus: Iul-02-2023